Procédés - P4

PVD - Magnétron - Evaporation - MBE :

Objectifs

Ce stage de deux jours et demi s'adresse aux techniciens et ingénieurs du milieu industriel et académique qui ont à mettre en œuvre des procédés de dépôt sous vide.

 

Cette formation donne les bases indispensables à une bonne compréhension des différents processus conduisant à la formation de films minces et vise à donner l'essentiel des connaissances nécessaires à la mise en œuvre des différents procédés de dépôt physique.

Pré-requis


Niveau Bac+2/ +3 en physique expérimentale, académique ou une équivalence acquise lors du parcours professionnel, plus particulièrement dans l'une au moins des spécialités suivantes : génie des procédés , physico-chimie, physique des milieux dilués, matériaux.

Programme

COURS THEORIQUES : 1,5 jour


  • Les processus physiques, thermiques, sputtering, différents types de dépôts (corps simples et dépôts réactifs), scénario de croissance : de l'adsorption à la formation du film
  • Évaporation thermique, bombardement électronique
  • Procédés assistés par plasma
  • PVD (incluant PVD simple, réactive, magnétron)
  • Procédés assistés par faisceaux d'ions
  • IBAD, Ion Plating
  • PLD
  • Epoitaxie par jet moléculaire

 

TRAVAUX PRATIQUES : 1 jour


  • Réalisation de dépôt par évaporation
  • PVD magnétron réactive en salle blanche
  • Epitaxie par jet moléculaire

 



Nombre de participants limité (manipulation en salle blanche)


Date

10-12 Mai 2017

Durée

2,5 jours / 18 heures

Lieu

Prix

Adhérent .........1 005 €
Non adhérent .....1 105 €

TP

40%

Niveaux

I - II - III

Documents

Texte des cours

Animateur:

Stéphane ANDRIEU Enseignant chercheur
stephane.andrieu@univ-lorraine.fr

Intervenants:

Mohamed BELMAHI
Laurent BOUVOT
Ludovic DE POUCQUES
Mathieu STOFFEL