Procédés - P5

Procédés CVD pour la croissance des couches minces :

Objectifs

 

 

Destiné à un public de techniciens, ingénieurs, chercheurs ou cadres désireux de se former ou d'approfondir leurs compétences dans le domaine du dépôt chimique en phase vapeur, cette formation vise à fournir non seulement les éléments fondamentaux gouvernant la synthèse de films minces à partir des approches technologiques les plus utilisées, mais également  une démarche de type génie des procédés qui permet de prendre en compte efficacement les problèmes de mise en échelle de réacteurs.
 
Les bases phénoménologiques communes aux procédés CVD seront tout d'abord présentées en s'attachant particulièrement à décrire ces concepts fondamentaux des techniques CVD depuis la formation des espèces réactives en phase gazeuse jusqu'aux propriétés des films déposés de manière à couvrir la diversité des processus mis en oeuvre dans chaque procédé.
 
Les principales approches de modélisation de tels procédés seront ensuite abordées pour décrire les difficultés relevant des couplages multi-échelles aujourd'hui fortement étudiés.
 
Enfin le cours s'ouvrira sur les plus récentes avancées de la recherche dans les domaines abordés, en particulier au regard des développements actuels conduits autour des matériaux nanostructurés et dans la conception et la réalisation de nanosystèmes.
 
En complément à ces enseignements théoriques, la mise en oeuvre pratique de diférents procédés CVD au travers de différentes expériences permettra une illustration concrète des concepts abordés précédemment.

 

 

Pré-requis

 

 

En plus d'un formation générale de niveau licence, les élèves devront disposer de connaissances élémentaires dans le domaine de l'hydrodynamique des gaz. Ils devront également disposer d'une formation de base en cinétique des réactions chimiques.

 

 

Programme

 

Jour 1

  • CVD thermique
  • CVD assisté par plasma
  • CVD à partir de précurseurs organo-métalliques
  • Croissance des nanostructures - CVD localisé  
  Jour 2

  • Travaux pratiques de CVD thermique, PECVD, MOCVD et ateliers

 

 

Date
22-23 Mars 2017

Durée
2 jours/14 heures

Lieu

Prix
Adhérent .........870 €
Non adhérent .....970 €

TP
50 %

Niveaux
I-II-III

Documents
Texte des cours

Animateur:
Thierry BELMONTE
Directeur de Recherche
thierry.belmonte@univ-lorraine.fr

Intervenants:
Thomas GRIES
Gérard HENRION
Michel VILASI