Procédés - P6

Initiation aux techniques de dépôts de couches minces par PVD et PECVD et de leur caractérisation par ellipsométrie :

Objectifs

 


Les procédés de dépôt de couches minces par voie sèche (évaporation, pulvérisation ionique, magnétron, CVD assistée par plasma) sont des procédés de dépôt basse température, respectueux de l’environnement, adaptés à des substrats de taille et nature variées. Ils sont  utilisés pour le dépôt de couches minces fonctionnelles ou multifonctionnelles : couches optiques, barrières, dures, isolantes, conductrices, décoratives… 


Ce stage de 2 jours est destiné aux techniciens, ingénieurs ou chercheurs, qui souhaitent avoir un panorama des principes et potentiels de ces procédés et de la technique d’ellipsométrie  pour être en mesure de choisir le procédé le mieux adapté à une application donnée. 

 

 

Pré-requis

 


Connaissance de base en physique et chimie (niveau bac +3) ou expérience pratique professionnelle en procédés physico-chimiques ou procédés couches minces.

 

 

 

Programme
Les deux jours de formation se partageront entre des cours présentant les principes et des exemples d’applications de ces différents procédés (6 h), des études pratiques de dépôt de couches minces (6 h). Du temps (2 h) sera également réservé pour des échanges entre formateurs et stagiaires afin de répondre aux questions et problèmes concrets des stagiaires.   

 

 

 

Cours
  • Rappel de quelques notions fondamentales sur les plasmas, les mécanismes d’interaction plasma surface et les modes de croissance des couches minces.
     
  • Principes et exemples d’application des procédés d’évaporation
     
  • Principes et exemples d’application des procédés de pulvérisation cathodique, magnétron, HiPIMS…
     
  • Principes et exemples d’application des procédés de dépôt CVD assistés par plasma (PECVD) 
     
  • Principes et exemples d’application de l’ellipsométrie pour la mesure in situ et ex situ de l’épaisseur et des propriétés optiques des couches minces.
 
Travaux pratiques
 
Les notions présentées dans les cours seront mises en pratique par des expériences de dépôt de couches minces par pulvérisation magnétron et PECVD et leur caractérisation par ellipsométrie.

Ces expériences permettront aux stagiaires d’aborder de façon concrète les paramètres (pression, puissance, nature du gaz, polarisation du porte-échantillon…) permettant de contrôler les structures et propriétés des couches minces déposées.  
 
 
 
Date
20-21 Septembre 2017

Durée
2 jours/14 heures

Lieu

Prix
Adhérent .........870 €
Non adhérent .....970 €

TP
40 %

Niveaux
I-II-III

Documents
Texte des cours

Animateur:
Pierre-Yves TESSIER
Maitre de Conférence
pierre-yves.tessier@cnrs-imn.fr

Agnès GRANIER
Directrice de recherche
agnes.granier@cnrs-imn.fr

Intervenants:
Christophe CARDINAUD
Abdel Aziz EL MEL
Antoine GOULLET

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